基本信息：

四氟化碳 純度：99.999%

中文名稱：四氟化碳

中文別名：四氟甲烷

CAS號：75-73-0

EINECS：200-896-5

分子式：CF4

分子量：88

物化性質：- 熔點:-184℃

相對密度：1.603

溶解性：不溶于水

用途：用于各種集成電路的等離子刻蝕工藝，也用作激光氣體及制冷劑

四氟化碳是目前微電子工業中用量最大的等離子蝕刻氣體，其高純氣及四氟化碳高純氣配高純氧氣的混合體，可廣泛應用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢薄膜材料的蝕刻。

對于硅和二氧化硅體系，采用CF4-H2反應離子刻蝕時，通過調節兩種氣體的比例，可以獲得45：1的選擇性，這在刻蝕多晶硅柵極上的二氧化硅薄膜時很有用。

在電子器件表面清洗、太陽能電池的生產、激光技術、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗劑、控制宇宙火箭姿態、印刷電路生產中的去污劑等方面也大量使用。

由于化學穩定性極強，CF4還可以用于金屬冶煉和塑料行業等。

四氟化碳的溶氧性很好，因此被科學家用于超深度潛水實驗代替普通壓縮空氣。目前已在老鼠身上獲得成功，在275米到366米的深度內，小白鼠仍可安全脫險。、

四氟化碳有時會用作低溫冷卻劑。它可用于電路板的制造，以及制造絕緣物質和半導體。它是用作氣體蝕刻劑及等離子體蝕刻版。

四氟化碳成品應存放在陰涼，干燥，通風的庫房內，嚴禁曝曬，遠離熱源。

吸入四氟化碳的后果與濃度有關，包括頭痛、惡心、頭昏眼花及心血管系統的破壞（主要是心臟）。長時間接觸會導致嚴重的心臟破壞。

四氟化碳的密度比較高，可以填滿地面空間范圍，在不通風的地方會導致窒息。

吸入四氟化碳的后果與濃度有關，包括頭痛、惡心、頭昏眼花及心血管系統的破壞（主要是心臟）。長時間接觸會導致嚴重的心臟破壞。

四氟化碳的密度比較高，可以填滿地面空間范圍，在不通風的地方會導致窒息。